等离子清洗机可以去除金属表面的微氧化层吗(等离子清洗机可以去除金属表面的微氧化层嘛)

原标题：等离子清洗机可以去除金属表面的微细氧化层，且不易损伤表面敏感的有机层。

等离子清洗设备常用的工艺气体有氧气、氩气、氮气、压缩空气、二氧化碳、氢气、四氟化碳等。等离子清洗设备对气体电离产生的等离子体进行清洗、活化和改性，以达到最佳的处理效果。今天我们就来了解一下相关的工艺气体。

1、氧气：氧气是等离子清洗中常用的活性气体。属于物理+化学处理。电离产生的离子可以物理轰击表面，形成粗糙表面。同时，高活性氧离子可与断裂的分子链发生化学反应，形成带有活性基团的亲水表面，实现表面活化；

2.氢气：氢气与氧气类似，是一种高反应性气体，可以活化和清洁表面。氢和氧的主要区别在于反应后形成的活性基团不同。氢气具有还原性，可用于去除金属表面的微氧化层，且不易损伤表面敏感的有机层。

3、氮气：氮气电离形成的等离子体可以与某些分子结构发生关键反应，因此它也是一种反应性气体，但与氧气和氢气相比，其颗粒相对较重。通常，这种气体在等离子清洗机应用中被定义为介于活性气体氧气、氢气和惰性气体氩气之间的气体。

等离子清洗设备的优点如下：

1、在需要键合之前，根据工艺选择通过微波等离子体源进入的反应气体，然后离子等物质与表面有机污染物发生化学反应，形成废气，由真空泵抽走。经过测试，清洗前后的表面张力都发生了变化。一个大的改变，有助于提高表面附着力；

2、喷涂前进行等离子清洗处理，提高喷涂效果；

低温等离子体技术在处理气态污染物方面具有显着的优势。其基本原理是在电场加速作用下产生高能电子。当电子的平均能量超过待处理分子的化学键能时，分子键就会断裂，从而清洁气态污染物。返回搜狐查看更多

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